首頁 > SCI期刊 > SCIE期刊 > 材料科學 > 中科院4區(qū) > JCRQ4 > 期刊介紹
評價信息：
影響因子：0.8
年發(fā)文量：32
《激光微納米工程學報》(Journal Of Laser Micro Nanoengineering)是一本以工程技術(shù)-材料科學：綜合綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Japan Laser Processing出版商創(chuàng)刊于2006年，刊期Tri-annual。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-材料科學：綜合領(lǐng)域的重點研究和前沿進展，及時刊載和報道該領(lǐng)域的研究成果，致力于成為該領(lǐng)域同行進行快速學術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為0.8。CiteScore指數(shù)值為1.9。
Journal of Laser Micro/Nanoengineering, founded in 2005 by Japan Laser Processing Society (JLPS), is an international online journal for the rapid publication of experimental and theoretical investigations in laser-based technology for micro- and nano-engineering. Access to the full article is provided free of charge.
JLMN publishes regular articles, technical communications, and invited papers about new results related to laser-based technology for micro and nano engineering. The articles oriented to dominantly technical or industrial developments containing interesting and useful information may be considered as technical communications.
《激光微/納米工程雜志》由日本激光加工協(xié)會 (JLPS) 于 2005 年創(chuàng)辦，是一本國際在線雜志，旨在快速發(fā)表激光微納米工程技術(shù)實驗和理論研究成果。全文免費提供。
JLMN 定期發(fā)表與激光微納米工程技術(shù)相關(guān)的新成果的文章、技術(shù)通訊和受邀論文。主要面向技術(shù)或工業(yè)發(fā)展、包含有趣和有用信息的文章可視為技術(shù)通訊。
《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》(激光微納米工程學報)編輯部通訊方式為JAPAN LASER PROCESSING SOC, 11-1 MIHOGAOKA, IBARAKI, OSAKA, JAPAN, 567-0047。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務(wù)，您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年，熟悉發(fā)表政策，可為您提供一對一投稿指導，避免您在投稿時頻繁碰壁，節(jié)省您的寶貴時間，有效提升發(fā)表機率，確保SCI檢索（檢索不了全額退款）。我們視信譽為生命，多方面確保文章安全保密，在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內(nèi)容。
2023年12月升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 材料科學 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2022年12月升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 材料科學 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月舊的升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 材料科學 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 材料科學 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2020年12月舊的升級版
| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 材料科學 | 4區(qū) | MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學：綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
基礎(chǔ)版：即2019年12月17日，正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表》；將JCR中所有期刊分為13個大類,期刊范圍只有SCI期刊。
升級版：即2020年1月13日，正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表升級版（試行）》,升級版采用了改進后的指標方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進，影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素，也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個學科擴展至18個，科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始，分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果，不再有基礎(chǔ)版和升級版之分,基礎(chǔ)版和升級版（試行）將過渡共存三年時間。
JCR分區(qū)等級：Q4
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q4 | 389 / 438 |
11.3% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 131 / 140 |
6.8% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q4 | 104 / 119 |
13% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 165 / 179 |
8.1% |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q4 | 379 / 438 |
13.58% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 125 / 140 |
11.07% |
| 學科：OPTICS | SCIE | Q4 | 110 / 120 |
8.75% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 160 / 179 |
10.89% |
| Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | 文章自引率 |
| 100.00% | 100.00% | 0.09... |
| 開源占比 | 出版國人文章占比 | OA被引用占比 |
| 1 | 0.1 | -- |
名詞解釋：JCR分區(qū)在學術(shù)期刊評價、科研成果展示、科研方向引導以及學術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細致劃分，JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置，從而幫助科研人員準確識別出高質(zhì)量的學術(shù)期刊。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數(shù) | ||||||||||||||||
| 1.9 | 0.198 | 0.402 |
|
名詞解釋：CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年（含計算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus，適用于所有連續(xù)出版物，而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊，比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認為是影響因子最有力的競爭對手。
歷年中科院分區(qū)趨勢圖
歷年IF值(影響因子)
歷年引文指標和發(fā)文量
歷年自引數(shù)據(jù)
2019-2021年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計
| 國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| GERMANY (FED REP GER) | 58 |
| Japan | 21 |
| CHINA MAINLAND | 16 |
| Lithuania | 7 |
| Russia | 6 |
| England | 5 |
| USA | 5 |
| India | 4 |
| Netherlands | 4 |
| Taiwan | 4 |
2019-2021年機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計
| 機構(gòu) | 數(shù)量 |
| FRAUNHOFER GESELLSCHAFT | 30 |
| RWTH AACHEN UNIVERSITY | 13 |
| TECHNISCHE UNIVERSITAT DRESDEN | 10 |
| RUHR UNIVERSITY BOCHUM | 7 |
| UNIV APPL SCI ASCHAFFENBURG | 7 |
| CENTER FOR PHYSICAL SCIENCES & TECHNOLOG... | 6 |
| BOSCH | 4 |
| ITMO UNIVERSITY | 4 |
| OSAKA UNIVERSITY | 4 |
| UNIVERSITY OF TWENTE | 4 |
2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| Utilizing Fundamental Beam-Mode Shaping ... | 6 |
| High Power Laser Processing with Ultrafa... | 6 |
| High-Efficiency Nanostructuring using Mu... | 5 |
| Multi Pulse Pump-Probe Diagnostics for D... | 5 |
| Biomimetic Anti-adhesive Surface Micro-s... | 5 |
| Ablation Characteristics of Alumina and ... | 5 |
| Positive Effect of Laser Structured Surf... | 4 |
| In-Situ Analysis of Ultrashort Pulsed La... | 4 |
| Homogeneous Low Spatial Frequency LIPSS ... | 4 |
| Laser-Induced Periodic Surface Structure... | 4 |
2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J LASER MICRO NANOEN | 30 |
| APPL SURF SCI | 28 |
| OPT LASER TECHNOL | 27 |
| J LASER APPL | 20 |
| OPT EXPRESS | 18 |
| APPL PHYS A-MATER | 16 |
| APPL SCI-BASEL | 16 |
| MATERIALS | 13 |
| OPT LASER ENG | 12 |
| OPT MATER EXPRESS | 12 |
2019-2021年引用數(shù)據(jù)
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| APPL PHYS A-MATER | 53 |
| APPL SURF SCI | 44 |
| OPT EXPRESS | 41 |
| OPT LETT | 32 |
| J LASER MICRO NANOEN | 30 |
| APPL PHYS LETT | 24 |
| J APPL PHYS | 24 |
| J LASER APPL | 18 |
| INT J ADV MANUF TECH | 14 |
| TRIBOL INT | 13 |
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：7.7
審稿周期：約Time to first decision: 9 days; Review time: 64 days; Submission to acceptance: 82 days; 約2.7個月 約7.8周
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：8.1
審稿周期：約Time to first decision: 6 days; Review time: 44 days; Submission to acceptance: 54 days; 約4.1個月 約6.8周
中科院分區(qū)：3區(qū)
影響因子：3.3
審稿周期：約17.72天 11 Weeks
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：98.4
審稿周期： 約3月
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.8
審稿周期： 約2.4個月 約7.6周
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.1
審稿周期： 約1.9個月 約2.7周
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：JAPAN LASER PROCESSING SOC, 11-1 MIHOGAOKA, IBARAKI, OSAKA, JAPAN, 567-0047。
