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        1. 首頁(yè) > SCI期刊 > SCIE期刊 > 工程技術(shù) > 中科院4區(qū) > JCRQ3 > 期刊介紹

          Journal Of Laser Applications

          評(píng)價(jià)信息:

          影響因子:1.7

          年發(fā)文量:166

          激光應(yīng)用雜志 SCIE

          Journal Of Laser Applications

          《激光應(yīng)用雜志》(Journal Of Laser Applications)是一本以光學(xué)-物理綜合研究為特色的國(guó)際期刊。該刊由Laser Institute of America出版商創(chuàng)刊于1988年,刊期Quarterly。該刊已被國(guó)際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄。期刊聚焦光學(xué)-物理領(lǐng)域的重點(diǎn)研究和前沿進(jìn)展,及時(shí)刊載和報(bào)道該領(lǐng)域的研究成果,致力于成為該領(lǐng)域同行進(jìn)行快速學(xué)術(shù)交流的信息窗口與平臺(tái)。該刊2023年影響因子為1.7。CiteScore指數(shù)值為3.6。

          投稿咨詢 加急發(fā)表

          期刊簡(jiǎn)介預(yù)計(jì)審稿時(shí)間: 12周,或約稿

          The Journal of Laser Applications (JLA) is the scientific platform of the Laser Institute of America (LIA) and is published in cooperation with AIP Publishing. The high-quality articles cover a broad range from fundamental and applied research and development to industrial applications. Therefore, JLA is a reflection of the state-of-R&D in photonic production, sensing and measurement as well as Laser safety.

          The following international and well known first-class scientists serve as allocated Editors in 9 new categories:

          High Precision Materials Processing with Ultrafast Lasers

          Laser Additive Manufacturing

          High Power Materials Processing with High Brightness Lasers

          Emerging Applications of Laser Technologies in High-performance/Multi-function Materials and Structures

          Surface Modification

          Lasers in Nanomanufacturing / Nanophotonics & Thin Film Technology

          Spectroscopy / Imaging / Diagnostics / Measurements

          Laser Systems and Markets

          Medical Applications & Safety

          Thermal Transportation

          Nanomaterials and Nanoprocessing

          Laser applications in Microelectronics.

          《激光應(yīng)用雜志》(JLA)是美國(guó)激光研究所(LIA)的科學(xué)平臺(tái),與 AIP 出版社合作出版。其高質(zhì)量文章涵蓋從基礎(chǔ)和應(yīng)用研究與開(kāi)發(fā)到工業(yè)應(yīng)用的廣泛領(lǐng)域。因此,JLA 反映了光子生產(chǎn)、傳感和測(cè)量以及激光安全領(lǐng)域的研發(fā)現(xiàn)狀。

          以下國(guó)際知名的一流科學(xué)家在 9 個(gè)新類別中擔(dān)任指定編輯:

          使用超快激光器進(jìn)行高精度材料加工

          激光增材制造

          使用高亮度激光器進(jìn)行高功率材料加工

          激光技術(shù)在高性能/多功能材料和結(jié)構(gòu)中的新興應(yīng)用

          表面改性

          納米制造/納米光子學(xué)和薄膜技術(shù)中的激光器

          光譜/成像/診斷/測(cè)量

          激光系統(tǒng)和市場(chǎng)

          醫(yī)療應(yīng)用和安全

          熱傳輸

          納米材料和納米加工

          激光應(yīng)用在微電子領(lǐng)域。

          《Journal Of Laser Applications》(激光應(yīng)用雜志)編輯部通訊方式為L(zhǎng)ASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826。如果您需要協(xié)助投稿或潤(rùn)稿服務(wù),您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年,熟悉發(fā)表政策,可為您提供一對(duì)一投稿指導(dǎo),避免您在投稿時(shí)頻繁碰壁,節(jié)省您的寶貴時(shí)間,有效提升發(fā)表機(jī)率,確保SCI檢索(檢索不了全額退款)。我們視信譽(yù)為生命,多方面確保文章安全保密,在任何情況下都不會(huì)泄露您的個(gè)人信息或稿件內(nèi)容。

          中科院分區(qū)

          2023年12月升級(jí)版

          大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

          2022年12月升級(jí)版

          大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

          2021年12月舊的升級(jí)版

          大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

          2021年12月基礎(chǔ)版

          大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

          2021年12月升級(jí)版

          大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

          2020年12月舊的升級(jí)版

          大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
          名詞解釋:

          基礎(chǔ)版:即2019年12月17日,正式發(fā)布的《2019年中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表》;將JCR中所有期刊分為13個(gè)大類,期刊范圍只有SCI期刊。

          升級(jí)版:即2020年1月13日,正式發(fā)布的《2019年中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表升級(jí)版(試行)》,升級(jí)版采用了改進(jìn)后的指標(biāo)方法體系對(duì)基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn),影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素,也沒(méi)有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個(gè)學(xué)科擴(kuò)展至18個(gè),科研評(píng)價(jià)將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開(kāi)始,分區(qū)表將只發(fā)布升級(jí)版結(jié)果,不再有基礎(chǔ)版和升級(jí)版之分,基礎(chǔ)版和升級(jí)版(試行)將過(guò)渡共存三年時(shí)間。

          JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

          JCR分區(qū)等級(jí):Q3

          按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
          學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 321 / 438

          26.8%

          學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 73 / 119

          39.1%

          學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 125 / 179

          30.4%

          按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
          學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 267 / 438

          39.16%

          學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 75 / 120

          37.92%

          學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 111 / 179

          38.27%

          Gold OA文章占比 研究類文章占比 文章自引率
          17.18% 96.99% 0.09...
          開(kāi)源占比 出版國(guó)人文章占比 OA被引用占比
          0.09... -- 0.05...

          名詞解釋:JCR分區(qū)在學(xué)術(shù)期刊評(píng)價(jià)、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學(xué)術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價(jià)值。通過(guò)對(duì)期刊影響因子的精確計(jì)算和細(xì)致劃分,JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的相對(duì)位置,從而幫助科研人員準(zhǔn)確識(shí)別出高質(zhì)量的學(xué)術(shù)期刊。

          CiteScore 指數(shù)(2024年最新版)

          CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
          3.6 0.422 0.803
          學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
          大類:Physics and Astronomy 小類:Instrumentation Q2 66 / 141

          53%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 106 / 224

          52%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 145 / 284

          49%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Biomedical Engineering Q3 177 / 303

          41%

          名詞解釋:CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫(kù)的全新期刊評(píng)價(jià)體系。CiteScore 2021 的計(jì)算方式是期刊最近4年(含計(jì)算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫(kù)Scopus,適用于所有連續(xù)出版物,而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過(guò) 26000 種期刊,比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認(rèn)為是影響因子最有力的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

          數(shù)據(jù)趨勢(shì)圖

          歷年中科院分區(qū)趨勢(shì)圖

          歷年IF值(影響因子)

          歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量

          歷年自引數(shù)據(jù)

          發(fā)文數(shù)據(jù)

          2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)

          文章引用名稱 引用次數(shù)
          High efficiency femtosecond laser ablati... 12
          Microstructure evolution during selectiv... 12
          Direct measurements of laser absorptivit... 10
          Toward application of hierarchical struc... 9
          Nanostructuring of laser textured surfac... 9
          Comparative study between CW and PW emis... 8
          Comparative study of stainless steel AIS... 7
          Experimental and theoretical investigati... 6
          Estimation of melt pool size by compleme... 6
          Wettability transition modes of aluminum... 6

          2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)

          被引用期刊名稱 數(shù)量
          J LASER APPL 167
          OPT LASER TECHNOL 87
          INT J ADV MANUF TECH 81
          MATERIALS 62
          J MANUF PROCESS 54
          J MATER PROCESS TECH 54
          APPL SURF SCI 47
          INT J HEAT MASS TRAN 42
          ADDIT MANUF 37
          METALS-BASEL 31

          2019-2021年引用數(shù)據(jù)

          引用期刊名稱 數(shù)量
          J LASER APPL 167
          APPL SURF SCI 123
          J MATER PROCESS TECH 121
          OPT LASER TECHNOL 85
          MATER DESIGN 76
          INT J ADV MANUF TECH 71
          MAT SCI ENG A-STRUCT 62
          J APPL PHYS 54
          APPL PHYS A-MATER 52
          J PHYS D APPL PHYS 52

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          免責(zé)聲明

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