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          Journal Of Electrostatics

          評價信息:

          影響因子:1.9

          年發(fā)文量:53

          靜電學雜志 SCIE

          Journal Of Electrostatics

          《靜電學雜志》(Journal Of Electrostatics)是一本以工程技術(shù)-工程:電子與電氣綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Elsevier出版商創(chuàng)刊于1975年,刊期Monthly。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域的重點研究和前沿進展,及時刊載和報道該領(lǐng)域的研究成果,致力于成為該領(lǐng)域同行進行快速學術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為1.9。CiteScore指數(shù)值為4。

          投稿咨詢 加急發(fā)表

          期刊簡介預(yù)計審稿時間: 約3.0個月 約6周

          The Journal of Electrostatics is the leading forum for publishing research findings that advance knowledge in the field of electrostatics. We invite submissions in the following areas:

          Electrostatic charge separation processes.

          Electrostatic manipulation of particles, droplets, and biological cells.

          Electrostatically driven or controlled fluid flow.

          Electrostatics in the gas phase.

          《靜電學雜志》是發(fā)表研究成果的主要論壇,這些研究成果推動了靜電學領(lǐng)域的知識進步。我們誠邀您提交以下領(lǐng)域的論文:

          靜電荷分離過程。

          粒子、液滴和生物細胞的靜電操控。

          靜電驅(qū)動或控制的流體流動。

          氣相靜電。

          《Journal Of Electrostatics》(靜電學雜志)編輯部通訊方式為ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務(wù),您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年,熟悉發(fā)表政策,可為您提供一對一投稿指導(dǎo),避免您在投稿時頻繁碰壁,節(jié)省您的寶貴時間,有效提升發(fā)表機率,確保SCI檢索(檢索不了全額退款)。我們視信譽為生命,多方面確保文章安全保密,在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內(nèi)容。

          中科院分區(qū)

          2023年12月升級版

          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)

          2022年12月升級版

          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)

          2021年12月舊的升級版

          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)

          2021年12月基礎(chǔ)版

          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)

          2021年12月升級版

          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)

          2020年12月舊的升級版

          大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
          工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 4區(qū)
          名詞解釋:

          基礎(chǔ)版:即2019年12月17日,正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表》;將JCR中所有期刊分為13個大類,期刊范圍只有SCI期刊。

          升級版:即2020年1月13日,正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表升級版(試行)》,升級版采用了改進后的指標方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進,影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素,也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個學科擴展至18個,科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始,分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果,不再有基礎(chǔ)版和升級版之分,基礎(chǔ)版和升級版(試行)將過渡共存三年時間。

          JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

          JCR分區(qū)等級:Q3

          按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
          學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 211 / 352

          40.2%

          按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
          學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 200 / 354

          43.64%

          Gold OA文章占比 研究類文章占比 文章自引率
          19.59% 98.11% 0.11...
          開源占比 出版國人文章占比 OA被引用占比
          0.06... 0.12 0.01...

          名詞解釋:JCR分區(qū)在學術(shù)期刊評價、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細致劃分,JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置,從而幫助科研人員準確識別出高質(zhì)量的學術(shù)期刊。

          CiteScore 指數(shù)(2024年最新版)

          CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
          4 0.426 1.029
          學科類別 分區(qū) 排名 百分位
          大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q2 182 / 434

          58%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 335 / 797

          58%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 134 / 284

          52%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 63 / 132

          52%

          大類:Physics and Astronomy 小類:Biotechnology Q3 167 / 311

          46%

          名詞解釋:CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年(含計算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus,適用于所有連續(xù)出版物,而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊,比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認為是影響因子最有力的競爭對手。

          數(shù)據(jù)趨勢圖

          歷年中科院分區(qū)趨勢圖

          歷年IF值(影響因子)

          歷年引文指標和發(fā)文量

          歷年自引數(shù)據(jù)

          發(fā)文數(shù)據(jù)

          2019-2021年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計

          國家/地區(qū) 數(shù)量
          USA 45
          CHINA MAINLAND 35
          Japan 25
          Russia 21
          France 18
          Iran 17
          Algeria 13
          Canada 10
          Poland 9
          Estonia 8

          2019-2021年機構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計

          機構(gòu) 數(shù)量
          UNIVERSITE DE POITIERS 14
          CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF... 12
          RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 11
          ECOLE NATIONALE SUPERIEURE DE MECANIQUE ... 10
          UNIVERSITE CONFEDERALE LEONARD DE VINCI 10
          TALLINN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 7
          UNIVERSITY DJILLALI LIABES SIDI BEL ABBE... 7
          UNIVERSITY OF OKLAHOMA SYSTEM 7
          WESTERN UNIVERSITY (UNIVERSITY OF WESTER... 6
          NORTH CHINA ELECTRIC POWER UNIVERSITY 5

          2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)

          文章引用名稱 引用次數(shù)
          Improvement of an electrostatic cleaning... 9
          Electrohydrodynamic flows in electrostat... 9
          Ionic wind produced by positive and nega... 7
          Efficacy of underwater AC diaphragm disc... 6
          Charged monosized droplet behaviour and ... 6
          Characterization of electrohydrodynamic ... 6
          Kinetic characterization of plasma-enhan... 5
          Influence of particle concentration and ... 5
          Electrospun conductive mats from PANi-io... 5
          A microfluidics device for 3D switching ... 5

          2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)

          被引用期刊名稱 數(shù)量
          J ELECTROSTAT 171
          POWDER TECHNOL 126
          J PHYS D APPL PHYS 56
          IEEE T PLASMA SCI 51
          NANO ENERGY 43
          INT J HEAT MASS TRAN 41
          ADV POWDER TECHNOL 40
          CHEM ENG SCI 32
          SEP PURIF TECHNOL 32
          APPL SCI-BASEL 30

          2019-2021年引用數(shù)據(jù)

          引用期刊名稱 數(shù)量
          J ELECTROSTAT 171
          IEEE T IND APPL 60
          J PHYS D APPL PHYS 43
          IEEE T DIELECT EL IN 40
          J APPL PHYS 34
          INT J HEAT MASS TRAN 32
          POWDER TECHNOL 32
          CHEM ENG SCI 19
          IEEE T PLASMA SCI 19
          PLASMA SOURCES SCI T 19

          相關(guān)期刊

          免責聲明

          若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。